Smoltek har de senaste åren utvecklat CNF-MIM, ett koncept för kretsintegrerade kondensatorer. Bolaget presenterar nu ny verifierad och industriellt attraktiv prestanda för detta koncept. Ett viktigt steg mot att kunna licensiera denna teknik till kunder inom halvledar – och elektronikbranschen.
Smoltek presenterar nya värden från den nanoteknikforskning som de bedriver på Chalmers Tekniska Högskolas laboratorium, MC2, i Göteborg.
Nyheten innebär att Smoltek nu kan visa upp ett antal kondensatorprototyper, baserade på kolnanofibrer med en kapacitansdensitet på 200nF (nanoFarad) per kvadratmillimeter. Värdet är två och en halv gånger större än den tidigare verifierade siffran vilken bolaget presenterade så sent som i maj detta år, och har uppnåtts med i sammanhanget korta nanostrukturer vilket ger en mycket låg total profilhöjd, en integrationsfördel.
Smoltek bekräftar vidare att internresistansen för kondensatorn är låg vilket är en viktig parameter i den praktiska användningen av tekniken. Bolaget har sedan tidigare visat att tekniken också uppfyller kraven på genombrottspänning för de applikationsområden som är av intresse.
– Detta är ett mycket viktigt steg för bolaget, det ökar attraktionskraften för vår teknik i de kunddialoger som pågår, säger Anders Johansson VD för Smoltek Nanotech Holding AB. Han konstaterar vidare att det fortfarande finns optimeringsmöjligheter i konceptet för framtiden.
– De nya mätresultaten bekräftar Smolteks ledande position när det gäller innovativ teknologi för integrerade passiva element. De visar återigen att vår kondensatorteknik är högst relevant för att möta utmaningarna i framtidens integrerade kretsar, det vill säga högre prestanda på mindre yta, säger teknikchefen professor Vincent Desmaris.
Enkelt utryckt syftar kapacitansdensitet på hur många elektroner som kan lagras per ytenhet. Att ett högre värde uppmätts betyder det att den önskade prestandan hos en kondensator kan uppnås på en mindre yta.
Foto: Paul Rydholm
